Российские специалисты представили проект многолучевого электронного литографа для выпуска современных микросхем. Разработка ведется при поддержке Национальной технологической инициативы. Основой установки стал мультикатод, который одновременно формирует множество независимых электронных лучей вместо одного, пишут «Известия».
TSMC теперь на заводе Fab 20 на Тайване ежемесячно выпускает 20 000 кремниевых пластин с использованием новейшего 2-нм техпроцесса. Серийный выпуск по этой технологии начался в конце 2025 года.